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紫外负性光刻胶
(BN303)
BN303系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的阴图型光致抗蚀剂，主要用于中小规模集成电路、分立器件及其它微型器件的制作。
更新:2014-10-31
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紫外负性光刻胶
(BN308)
BN308系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的阴图型光致抗蚀剂，主要用于分立器件及其它微型器件的制作。
更新:2014-10-31
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紫外负性光刻胶
(BN310)
BN303系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的阴图型光致抗蚀剂，具有较高的分辨率，主要用于中小规模集成电路、分立器件及其它微型器件的制作。
更新:2014-10-31
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负胶稀释剂
一、用途用于BN系列负胶的稀释，也可用于国外同类产品的稀释。二、主要特征无色透明液体，能与醇﹑醚﹑***等溶剂混合，不溶于水，有毒，易燃。
更新:2014-10-31
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负胶漂洗剂
一、用途用于BN系列产品显影后的漂洗，适用于国外同类产品的清洗。二、主要特征无色透明液体，有酯的香味。
更新:2014-10-31
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紫外正型光刻胶
紫外正型光刻胶是一类采用紫外线曝光的酚醛树脂类阳图型抗蚀剂，包括BP-212、BP-218等系列产品。这类产品具有高感度、高分辨率及良好的显影宽容度等优点，主要用于集成电路和液晶显示器件等微电子技术的制作。
更新:2014-10-31
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紫外负型光刻胶
紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的环化橡胶—重氮萘醌类阴图型抗蚀剂，包括BN-301、BN-303、BN-308、BN-310等系列产品。这类产品具有粘附性和抗湿法腐蚀性好及易于去胶等优点，主要用于分立器件、集成电路及其它微型零件等微电子技术的制作。
更新:2014-10-31
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负胶配套试剂
负胶配套试剂主要是与BN系列紫外负型光刻胶配套使用的一类超净高纯试剂，包括负胶表面处理剂、负胶显影剂、负胶去胶剂(去膜剂)、负胶剥离液、负胶稀释剂、负胶清洗剂和负胶显影漂洗剂等产品。
更新:2014-10-31
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电解质
凝胶电解质 高稳定电解质 高效准固态液晶电解质离子液体电解质
更新:2014-04-21
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