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[新品] 碳氮化钛
(TiNC)
碳氮化钛呈深灰色,密度为5.08g/cm3。利用一体多温段新型工艺生产 的碳氮化钛是我司优势所在,相比传统工艺生产的碳氮化钛,具有含氧量低,固溶度高以及粒度分布均匀等特点。
更新:2024-05-15
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[促销] 硅化镍
中文名称:硅化镍英文名称:dinickel silicideCAS号:12059-14-2分子式:Ni2Si分子量:145.4723
更新:2024-05-15
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[促销] 硅化镁
硅化镁(Mg2Si)是Mg-Si二元体系的非常稳定化合物,它具有高熔点、高硬度、高弹性模量的特性,是一种窄带隙n型半导体材料,在光电子器件、电子器件、能源器件、激光、半导体制造、恒温控制通讯等领域有重要应用前景。
更新:2024-05-15
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[促销] 二硅化铬
二硅化铬用作陶瓷材料、高电阻薄膜材料。
更新:2024-05-15
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[促销] 纳米级高纯碳化铌
(200nm)
碳化铌为灰色立方结晶,有金属光泽,属氯化钠型立方晶系。相对密度8.47,晶格常数a=0.447nm,熔点3500℃。显微硬度>23.5 Gpa(>2400 kg/mm2),比刚玉还硬。
更新:2024-05-15
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[促销] 二硅化锰
中文名称:硅化锰 二硅化锰英文名称:manganese disilicideCAS号:12032-86-9分子式:H53Mn15Si26分子量:1607.7145
更新:2024-05-15
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[促销] 二硅化钒
二硅化钒,制备硅化钒薄膜,用大束流密度的钒金属离子注入硅,能够直接合成性能良好的薄层硅化物。
更新:2024-05-15
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[促销] 二硅化铪
二硅化铪主要可用作精细陶瓷原料粉,用于生产半导体薄膜生产用坩埚。
更新:2024-05-15
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[促销] 二硅化铌
二硅化铌可用作精细陶瓷原料。
更新:2024-05-15
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[促销] 二硅化钽
二硅化钽用作精细陶瓷原料粉,用于陶瓷工业以及电接触器和半导体设备。
更新:2024-05-15
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[促销] 二硅化铝
硅化铝用于制造低中强度的形状复杂的铸件,如盖板、电机壳、托架等。也用作钎焊焊料。
更新:2024-05-15
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[促销] 二硅化钨
硅化钨用于制抗氧化覆盖层和电阻丝敷剂。
更新:2024-05-15
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[促销] 纳米级高纯碳化铪
(200nm)
碳化铪用于粉末冶金、切削工具、精细陶瓷、化学气相沉积、硬质耐磨合金刀具、工具、模具和耐磨耐蚀结构部件添加剂,提高合金的韧性。
更新:2024-05-15
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[促销] 二硅化钼
硅化钼,灰黑色粉末,密度6.28克/立方厘米,熔点2030度,二硅化钼的应用于高温抗氧化涂层材料、电加热元件、集成电极薄膜、结构材料、复合材料的增强剂、耐磨材料、结构陶瓷的连接材料等领域。
更新:2024-05-15
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[促销] 纳米级高纯碳化钒
(200nm)
碳化钒，黑色立方晶体，熔点2810℃,沸点3900℃,相对密度5.77。比石英略硬。主要用于制造钒钢。可用作碳化物硬质合金添加剂。
更新:2024-05-15
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[促销] 高纯氮化铬
氮化铬既是优良的炼钢合金添加剂同时也具有良好的物理和机械性能,比氮化钛的耐磨性还好。主要用于耐磨涂层。
更新:2024-05-15
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[促销] 二硅化锆
二硅化锆用作精细陶瓷原料粉,用于生产半导体薄膜生产用坩埚。
更新:2024-05-15
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[促销] 三硅化五钛
硅化钛,三硅化五钛,Ti5Si3,阴凉通风干燥黑色粉末,密度4.10克/立方厘米,熔点2130度。
更新:2024-05-15
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[促销] 二硅化钛
二硅化钛,黑色粉末,密度4.02克/立方厘米,熔点2130度。
更新:2024-05-15
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[新品] 二硼化铬
硼化铬用作耐磨、抗高温氧化涂层和核反应堆中的中子吸收涂层。用于陶瓷,熔喷在金属及陶瓷表面,形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。硼化铬与氧化铝在微氧化气氛中烧结或热压制品,有高温耐磨的实用价值。
更新:2024-05-15
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